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加熱制冷水槽（-30℃～90℃）可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥、半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應用。